Die heutigen Produktionssysteme der Halbleiterindustrie stoßen in absehbarer Zeit an ihre technisch-ökonomischen Grenzen. Die nächste Generation von Lithographiesystemen muss auf einer vollständig anderen technologischen Basis realisiert werden. Weltweit wird kollektiv und kooperativ von verschiedenen, auch miteinander kokurrierenden Akteuren daran gearbeitet. In dieser Studie werden mögliche Pfade, Pfadabhängigkeiten und Pfadkreationsprozesse, zentrale Akteure, bereits bestehende Konstellation und geeignete Forschungsmethoden identifiziert und analysiert.

Finanziert durch: VolkswagenStiftung, Hannover

Zeitperiode: 10/04 – 09/09 (Vorstudie: 08/03 - 11/03)

Überblick

• „Paths of Technological Development: Concepts and Empirical Results“, September 17-18th, 2007, participants are Dimitris Assimakopoulos (Grenoble Ecole de Management / LINC Lab), Ulrich Dolata (Research Centre for Sustainibility Studies), Raghu Garud (Smeal College of Business, Pennsylvania State University), Peter Karnøe (Copenhagen Business School), Andrew Nelson (Stanford University), Krsto Pandza (Leeds University Business School), Werner Rammert (Technical University Berlin), Arie Rip (University of Twente) Douglas Robinson (Twente), Philipp Tuertscher (University of St. Gallen) and Tyler Wry (University of Alberta School of Business) at the Freie Universität Berlin.
• „Organising Paths – Paths of Organising“, November 3-4th, 2006, organized by the European Institute for Advanced Studies in Management (EIASM) at the Freie Universität Berlin.
• „Measuring Path Dependency – The Social-Constructivist Challenge”, September 5-6th, 2005 at the Freie Universität Berlin

• DFG-Graduiertenkolleg "Pfade organisatorischer Prozesse" (FU Berlin)